訊息稱三星將於2025年初從ASML引進High-NA EUV光刻機
2024-10-31 01:32:52 3
《科創板日報》30日訊，據報道援引訊息人士稱，三星電子將從ASML引進首臺High-NA EUV光刻機EXE:5000，預計2025年初到貨。半導體裝置安裝通常需要較長測試時間，該光刻機預計最快2025年中旬開始執行。High-NA EUV為2奈米以下先進製程所需裝置，韓國業界預期，三星也將正式啟動1奈米晶片的商用化程序。
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